產品介紹
RF350離子源使用圍繞等離子體罐的射頻感應線圈的射頻功率工作。 射頻場激發罐中的電子，使它們與氣體原子碰撞產生離子，在源的等離子體罐中產生等離子體。
一旦等離子體被點燃，柵網上的電勢將離子從源中提取出來，并加速它們向基片移動，從而產生離子束。
產品應用
我司提供的RF350離子源主要應用于離子束刻蝕設備（IBE）與離子束沉積設備（IBD）
產品特點
支持很寬的高功率操作范圍
卓越的等離子體均勻性、穩定性
3網格設計提供了非常高的準直性
水冷式——適用于低功率到高功率運行
穩定高效的等離子體操作具有精確控制能力并允許高重復性
非常適合于負載鎖定生產工藝
