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刻蝕設備

鍍膜設備

核心組件

技術支持

PEALD設備

發布日期:2023/10/11 0:00:00
1.成膜均勻性小于1%;
2. LOADLOCK 樣品傳輸系統;
3.獨特的進氣設計,快速閥門相應(<10ms),精確控制每個循環中的進源量,有效避免反應源的損失;
4.反應Gas line采用全包裹加熱式,對氣線進行差異式控溫方式進行加熱,管路加熱均勻;
5. ICP 遠程感應耦合等離子體系統;
6.原裝進口 1000W 射頻電源;
7.高性能真空系統(含進口干泵+分子泵)。

0513-59999369